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全自动电化学CV 分布仪 CVP21

时间:2009-04-13 16:43来源:瞬渺光电 作者:瞬渺光电 点击:次
全自动电化学 CV 分布仪 CVP21 本设备适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上， 例如： Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides. CVP 21 的净室和模块化
　　
•
Si, Ge, SiC
  • •III-V: GaAs, InP, …
  • •Ternary: AlGaAs, GaInP, …
  • •Quaternary: AlGaInP, …
  • •Nitrides: GaN, …
  • •Stacked layer combinations
    • 　
    载流子浓度测量范围:
    • •最大 1021/cm³
    • •最小 1011
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